氣相沉積爐CVD沉積爐
主要內容：
氣相沉積爐（CVI/CVD沉積爐）
概述：
本爐是在真空氛圍中，以C/C復合材料氣相致密化處理為目的，通過電阻加熱器達到所需溫度，使沉積氣體裂解，從而沉積到材料表面上形成致密、性能高的復合材料的真空設備。
性能特點：
1.通過PID調節方式實現爐內溫度的*控制；
2.獨立的分區加熱控制，既能保證絕緣不易破壞，又方便加熱器的維修更換；
3.采用德國進口的真空測量設備，可準確有效的避免爐內氣氛對測量精度的影響；
4.水、氣、電綜合故障聲光報警裝置，保證系統運行平穩、安全；
主要技術參數：
參數 | CVI | CVD |
*設計測量溫度 | 1200℃ | 1500℃ |
常用工作溫度 | 1050℃ | 1200℃ |
滿功率升溫時間 | ～1000℃≤ 3h | RT～1000℃≤5h |
溫度均勻性（1000℃時） | ≤±10℃ | ≤±10℃ |
冷態空爐極限真空度 | ≤10Pa | ≤10Pa |
壓升率 | ≤5Pa/h | ≤5Pa/h |
控溫精度 | ≤±1℃ | ≤±1℃ |
動力電源 | 3Φ380 V 50 Hz 850 KVA | 3Φ380V 50Hz 1000KVA |
工作電源 | Umax=40 V Imax=25000 A | Umax=7～70v |
